Datei:LOCOS process DE.svg
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aktuell | 23:41, 1. Feb. 2009 | ![]() | 768 × 600 (20 KB) | Cepheiden | {{Information |Description={{en|1=(originally) LOCOS process for isolating structures in semiconductor technology 1.-3. layer stack deposition (SiO2, Si3N4, photo resist) 4. opening oxidation window 5. thermal oxidation of Silicon with increasing volume |
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