180纳米制程

180纳米制程，又稱0.18微米製程，是半导体制造制程的一个水平，大约于1999年至2000年左右达成。^[1][2] 这一制程是由当时领先的半导体公司如英特尔、德州仪器、IBM和台積電所完成的。

一些CPU最初是由这个制程所制造。其中包括英特尔奔腾III处理器。这是第一个沟道长度小于用于光刻的光的波长的制程。