350纳米制程

350纳米制程,又稱0.35微米製程,是半导体制造制程的一个水平,大约于1995年至1996年左右达成。[1][2] 这一制程由当时领先的半导体公司如英特尔IBM所完成。

具有350纳米制程的产品

参考文献

先前
600纳米制程
半导体器件制造制程其後
250纳米制程