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具有250纳米制程的产品
2
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外观
维基百科,自由的百科全书
半导体器件制造
金屬氧化物半導體場效電晶體
0
10 µm
– 1971
00
6 µm
– 1974
00
3 µm
– 1977
1.5 µm
– 1981
00
1 µm
– 1984
800 nm
– 1987
600 nm
– 1990
350 nm
– 1993
250 nm
– 1996
180 nm
– 1999
130 nm
– 2001
0
90 nm
– 2003
0
65 nm
– 2005
0
45 nm
– 2007
0
32 nm
– 2009
0
22 nm
– 2012
0
14 nm
– 2014
0
10 nm
– 2016
00
7 nm
– 2018
00
5 nm
– 2020
00
3 nm
– 2022
未來
00
2 nm
~ 2024
晶體管數量
互補式金屬氧化物半導體
半导体器件
(
多閘極電晶體
)
摩尔定律
晶體管數量
半导体
半导体产业
纳电子学
查
论
编
250
纳米
制程
,又稱
0.25
微米
製程
,是
半导体制造
制程
的一个水平,大约于1997年至1998年左右达成。
[1]
[2]
这一制程由当时领先的半导体公司如
英特尔
和
IBM
所完成。
具有250纳米制程的产品
DEC Alpha
21264A
AMD K6-2
英特尔
Pentium II
Deschutes
英特尔
Pentium III
Katmai
Dreamcast
遊戲機的CPU和GPU
最初
PlayStation 2
的
Emotion Engine
(
英语
:
Emotion Engine
)
CPU
NVIDIA RIVA TNT2
,
NVIDIA
設計的顯示晶片
参考文献
先前
350纳米制程
半导体器件制造
制程
其後
180纳米制程
分类
:
半导体器件制造
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